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半導(dǎo)體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
主要用于粉末成型、預(yù)織成型工件的脫脂，也可用于高溫加壓燒結(jié)、浸滲增強、晶體轉(zhuǎn)化生長、化合反應(yīng)等工藝，采用電阻加熱。
優(yōu)勢和特點：
工作溫度從常溫到3000℃，壓力從5MPa到200MPa，可廣泛滿足硬質(zhì)合金、3D打印、特種陶瓷、復(fù)合材料、電子、化工等領(lǐng)域的要求。
可根據(jù)客戶實際需求定制。
地址：沈陽市大東區(qū)萬柳塘路2號
傳真：024-24809927
Email：yb@sy-vac.com
網(wǎng)址：www.msfd.net
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